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标  题: 美科学家制成纳米光刻机
发信站: 哈工大紫丁香 (2001年01月19日21:51:08 星期五), 站内信件

美科学家制成纳米光刻机 可刻绘出十五纳米线宽的图形  最新一期《科学》杂志报道说
，美国西北大学化学系教授英金等人研制成了纳米光 刻机，其刻笔笔尖可以“浸”入有
机分子池中，刻划出15纳米线宽的图形。这项发明被 认为是纳米技术研究的重大突破。
 目前制造半导体芯片的光刻法正面临新的挑战，最先进的光刻设备，仅能达到130 纳米
线宽。但英金发明的光刻机，可以产生比传统的光刻法小几个数量级的微电路。 该研究
小组利用这种纳米光刻机刻绘出拥有15纳米线宽的8个相同图形。英金认为， 最终将有
可能刻画出1纳米线宽的图形，这相当于DNA链直径的一半。英金认为，尽管纳 米光刻机
将不会很快取代现有的光刻方法，但未来几年，如能扩大使用几百个或几千个 这种光刻
机，则可在很多领域中得到应用。利用传统的原子显微镜可操作这些纳米光刻 机，也为
在很小尺寸材料上，特别是生物材料上刻绘图形，提供廉价的方法。 但该项研究工作更
重要意义在于，光刻机能成功地用于化学和生物实验的其他分子。 斯坦福大学纳米技术
专家奎特说，如果将纳米光刻机应用的规模扩大，并使运行速度加 快，那将开辟新的前
沿技术。科学家们能快速测试化学反应，鉴别出引发疾病的各种病 毒，试验它们对药物
的灵敏性，这会出现新的疗法或诊断工具。英金认为，如果最终能 将图形的线宽，刻绘
到5纳米—10纳米大小，这种方法可从遗传学角度精确地标出身体的 异常部位，设计和
实验合成抗体。 摘自:科技日报 
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