Chemistry 版 (精华区)

发信人: Appolo (want come back my friends ), 信区: Chemistry
标  题: 可分析有机EL薄膜结构 日本推出新型溅镀仪
发信站: BBS 哈工大紫丁香站 (Tue Nov 16 12:40:23 2004)

日本ULVAC-PHI公司于2004年11月12日宣布，与离子枪生产商英国Ionoptika公司联合开发
出了以C60为离子源的溅镀机离子枪，并已经开始销售（发布资料（日文））。其特点是能
够在不破坏成份和结构的情况下以1nm（深度方向）的误差，对有机薄膜样本的表面进行切
削或溅射清除。该公司表示“可对有机薄膜进行低损伤蚀刻，这在此前是做不到的”。通
过与使用X射线对物质表面成份和分子结构进行分析的X射线光电子能谱仪（XPS）配合使用
，能够高精度地对有机EL使用的有机半导体层的各层分子结构以及界面结构进行分析。 


 http://china.nikkeibp.co.jp/china/img_data/041116el1.jpg
图1：日本ULVAC-PHI公司等开发的C60离子枪 
 http://china.nikkeibp.co.jp/china/img_data/041116el2.jpg
 
图2：向样本调整溅射C60离子（红色粒子）时的模拟图像。通过溅射清除部分样本，能够
形成直径1nm～10nm的“凹坑”。与测射其他离子相比，C60的残留较小，不会产生不必要
的化合物 
 
　　双方此次开发的是一种通过高速喷射C60离子撞击样本，能够在1nm到最大数百nm的厚
度范围内对样本表面进行溅射清除的离子枪（图1）。主要用于使用XPS时的干蚀刻处理。
此前该处理一直使用采用Ar等离子的离子枪。但是，由于离子尺寸、质量及化学反应特性
等问题，当要以数nm以上的深度对样本进行切削时，经常就会由于大量离子深陷样本之中
，破坏样本的化学结构，导致无法得到正确的分析结果。“比如，在对CF2组成的聚四氟乙
烯使用老式离子枪时，CF2受到破坏后就会分解成CF和F”（ULVAC-PHI公司分析室课长真田
 则明）。 

　　业界很早就知道，如果采用C60离子，样本的损伤就会非常小，能够按照所需的深度准
确地对样本进行溅射清除（图2）。“尽管原因不是很明确，不过可能与C60直径较大有关
系，其直径达到了0.7nm，而Ar原子的直径仅为0.2nm左右”（真田）。“开发成功可大量
产生C60离子并能稳定地溅射到样本上的技术，才成功实现了此次投产”（ULVAC-PHI公司
）。 

　　C60在常温常压下很难形成离子。该公司首先将其加热到400℃使之发生升华，然后照
射微弱的电子束，即可产生1～2价的C60离子。让C60离子通过质量过滤器，提高离子纯度
后，先利用1kV～10kV的电压进行加速，再喷射到样本上。“C60的价格为每百mg数百万日
元。只要有100mg，哪怕在平时的分析工作中每天使用，也能用上1年以上，因此材料成本
不需担心”。 

　　ULVAC-PHI公司将这种C60离子枪与该公司的XPS配套销售。C60离子枪根据离子束的最
大宽度等指标分为多种类型，与XPS组成的套件价格也各不相同。XPS的价格约为1亿4000万
日元（约合人民币1070万元）。而C60离子枪的单份则为每部1500万日元（约合人民币115
万元）。
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http://www.nsfc.gov.cn/nsfc/cen/nami/image/5997203.gif


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