Physics 版 (精华区)

发信人: FDTD (放荡*坦荡), 信区: Physics
标  题: [合集]请问X-ray的问题
发信站: 哈工大紫丁香 (2004年03月07日07:37:35 星期天), 站内信件


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 boyang (Protoss)                     于 Fri Jan  9 19:41:53 2004 说道:

X射线长时间照射材料，会不会引起材料的变化？

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 Rg (RedGardenia)                     于 2004年01月09日19:54:36 星期五 说道:

那得看什么材料了，也就是射线能不能破坏物质的化学键，
如果是生物材料，比较容易打坏的，长时间的紫外光就能打坏。
【 在 boyang (Protoss) 的大作中提到: 】
: X射线长时间照射材料，会不会引起材料的变化？

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 boyang (Protoss)                     于 Sat Jan 10 15:25:28 2004 说道:

那对于无机材料，如金属，陶瓷呢？
是不是一般情况下没有问题？


【 在 Rg 的大作中提到: 】
: 那得看什么材料了，也就是射线能不能破坏物质的化学键，
: 如果是生物材料，比较容易打坏的，长时间的紫外光就能打坏。
: 【 在 boyang (Protoss) 的大作中提到: 】
: : X射线长时间照射材料，会不会引起材料的变化？

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 Taopi (袋鼠)                         于 2004年01月23日17:02:56 星期五 说道:

一般来说，在实验室条件下，用X衍射仪照射时间仅仅十几个小时是不会
损坏陶瓷或金属一类物质的结构的。
【 在 boyang (Protoss) 的大作中提到: 】
: 那对于无机材料，如金属，陶瓷呢？
: 是不是一般情况下没有问题？
: 
: 
: 【 在 Rg 的大作中提到: 】
: : 那得看什么材料了，也就是射线能不能破坏物质的化学键，
: : 如果是生物材料，比较容易打坏的，长时间的紫外光就能打坏。
: : 【 在 boyang (Protoss) 的大作中提到: 】

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 luckfire (火)                        于 Fri Jan 23 18:10:10 2004 说道:


（转）
http://www.nsrl.ustc.edu.cn/1guangke.html


　X射线光刻光束线和实验站 
1. 光束线 
1.1 概述 

  利用同步辐射光源开展X射线光刻研究是同步辐射应用的主要课题之一，在世界上尤其是
在发达国家普遍受到重视。合肥光源（HLS）的电子能量为800MeV, 特征波长为24Å
，是一个非常适合开展光刻研究工作的光源。 

    U1 X射线光束线的主要技术参数如下： 

      镜箱：        静态真空度      优于 5×10-8 Pa 

      扫描反射镜：    掠入射角      20 mrad 

                    水平接受角      5.5 mrad 

                      扫描角度      ±4 mrad 

      差分系统：    高端真空度      5×10-8 Pa 

                    低端真空度      5×10-4 Pa 

      工作波长：                    0.5 -- 2 nm 

      铍窗厚度：                    7.6 mm 

  

1.2 结构 

同步辐射光自弯铁出光口引出，经光束线到达实验站。U1光束线主要由前端、镜箱、曝光
箱、差分抽气系统和测量控制系统组成。光束线前端是每条光束线必备的标准装置，包括
水冷光屏、气动门阀、快阀和光闸（安全阀）。光束线前端和真空控制系统共同完成对光
束线和环真空的保护及人身安全的防护。光束线结构如图1所示，光束线光路如图2所示。



 
图1.光刻光束线结构图；光刻光束线由前端、镜箱和差分系统等组成
 

 
 
 


图2.光刻光束线光路图
 

 


2. X射线光刻实验站

2.1 概述 

同步辐射X射线光源具有高准直性、高辐射通量、宽带光谱的特性，在良好的真空环境中，
可实现0.1um以下的高分辨率图形复制和高纵宽比图形的深度刻蚀，这在下一代超大规模集
成电路生产、微机械、特种微器件、微光学元件等研究方面有着广泛的应用前景。

X射线光刻实验站的核心设备是安装在U1光刻光束线上的单次曝光机，该装置安装于1000级
洁净室中。另有数间专用实验室（内含12m2 1000级洁净室一间），配备光刻胶制备、处理
等工艺设备和扫描电子显微镜等测量设备。


主要技术参数：
曝光室真空度 优于5×10-4 Pa
曝光面积 30×30 mm2
曝光均匀性 <±5% 

2.2 实验站工作模式
    曝光室为单次曝光模式、无套刻对准装置。样品夹具可在水平方向50mm范围内微调平
移。



3. 资助研究方向 

3.1 同步辐射光刻相关基础技术研究
     (1) X射线掩模技术研究与掩模研制
     (2) 新型X射线光刻胶研究与研制

3.2 只需单次X射线曝光的微器件、微元件的研制（用户自备X射线掩模）
3.3 其它特殊实验，如辐照等（样品必须是不放气、无污染的）



4. 联系人
  
刘　刚 电话：0551- 3602122, 3602047 传真：0551- 5141078  Email：liugang@ustc.e
du.cn

田扬超 电话：0551- 3601844, 3602047 传真：0551- 5141078  Email：ychtian@ustc.e
du.cn 

　


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2001-2003&copy; 中国科学技术大学国家同步辐射实验室
 
【 在 Taopi 的大作中提到: 】
: 一般来说，在实验室条件下，用X衍射仪照射时间仅仅十几个小时是不会
: 损坏陶瓷或金属一类物质的结构的。
: 【 在 boyang (Protoss) 的大作中提到: 】
: : 那对于无机材料，如金属，陶瓷呢？
: : 是不是一般情况下没有问题？
: : 
: : 

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 luckfire (火)                        于 Fri Jan 23 18:33:32 2004 说道:


x光的波长短
能量高
x光子撞到原子时，可以把原子的电子，从内层打出来；
飞出的电子会与其它的原子发生碰撞发生作用。
飞出的电子留下的空穴会有外层电子补充，释放其它波长的光子

这些作用产生原子的震荡，会使材料的局部温度升高，
当x光子的密度足够高，产生的能量不能够及时疏散，原子震动加剧，一定会破坏掉原来的
结构


【 在 boyang 的大作中提到: 】
: X射线长时间照射材料，会不会引起材料的变化？

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 boyang (Protoss)                     于 Fri Jan 23 21:35:04 2004 说道:


哈哈
多谢各位高人指点

多谢多谢

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