Physics 版 (精华区)
垂直腔面发射激光器
垂直腔面发射激光器(VCSELD)是一种与普通半导体激光器完全不同的新型
半导体激光器。我们知道,普通半导体激光器的谐振腔是利用晶体的解理面来构
成的,激光器各层的生长方向平行于晶体的解理面。普通半导体激光器中,光子
的谐振方向垂直于各层的生长方向(即在层内谐振),因而谐振腔长度可以在解
理时人为控制。
垂直腔面发射激光器则不然,它的光子谐振方向平行于各层的生长方向(即
垂直于层谐振)这样,它的谐振腔就无法利用晶体的解理面,而必须采用生长的
方法来构成。形象地说,如果把半导体激光器比做一块放在桌上的三明志蛋糕,
那么垂直腔面发射激光器的辐射方向垂直于桌面,普通激光器则平行于桌面。
垂直腔面发射激光器的谐振腔一般这样形成:在有源层的上下两边分别用两
种组分不同(当然折射率也不同)的半导体材料以四分之一波长的厚度交替生长,
形成分布式Brag反射器,由于相长干涉效应而产生高反射率,这类似于在玻璃基
片上镀高反射率膜。
垂直腔面发射激光器由于结构上的特殊性而具有如下优点:
1. 由于谐振腔长度(即有源层的生长厚度)极短,一般为一个谐振波长,因而产
生了微腔自发辐射增强效应,可以实现极低阈值工作。
2. 发光方向垂直于衬底平面,其排列方式为面阵形式,特别适合于平行光互连和
光信息处理。
3. 有源区截面可以做成圆形(或方形),输出光为高斯基横模,圆形光斑,发散
角小,方向性好。
4. 由于谐振腔长度极短,很容易实现动态单纵模工作。
5. 器件截面和管间距可以做得很小,可实现高密度集成,特别是实现锁相列阵。
6. 由于没有解理腔,特别适于OEIC和PIC。
垂直腔面发射激光器从工艺角度而言有很大难度:
1. 由于谐振腔长度极短,因而要求反射镜的反射率在98%以上。同时有源区增益要
很高,这对于微米量级的谐振腔长度而言的确很难。
2. 由于激射模间距很大,要求F-P腔谐振波长与量子阱激射波长匹配,实现这一点
的难度很大。
3. 为了获得高反射率,分布式BRAG反射器的层数很大,从工艺上来说要保证上百
层半导体材料的厚度都很均匀的确困难,而且使得器件的串联电阻很大,热特性变
差。
由于这些原因,从1977年伊贺健一提出垂直腔面发射激光器概念起,直到1988
年才实现室温工作。目前国际上垂直腔面发射激光器已发展到较高水平,阈值电流
垂直腔面发射激光器由于结构上的特殊性而具有如下优点:
1. 由于谐振腔长度(即有源层的生长厚度)极短,一般为一个谐振波长,因而产
生了微腔自发辐射增强效应,可以实现极低阈值工作。
2. 发光方向垂直于衬底平面,其排列方式为面阵形式,特别适合于平行光互连和
光信息处理。
3. 有源区截面可以做成圆形(或方形),输出光为高斯基横模,圆形光斑,发散
角小,方向性好。
4. 由于谐振腔长度极短,很容易实现动态单纵模工作。
5. 器件截面和管间距可以做得很小,可实现高密度集成,特别是实现锁相列阵。
6. 由于没有解理腔,特别适于OEIC和PIC。
垂直腔面发射激光器从工艺角度而言有很大难度:
1. 由于谐振腔长度极短,因而要求反射镜的反射率在98%以上。同时有源区增益要
很高,这对于微米量级的谐振腔长度而言的确很难。
2. 由于激射模间距很大,要求F-P腔谐振波长与量子阱激射波长匹配,实现这一点
的难度很大。
3. 为了获得高反射率,分布式BRAG反射器的层数很大,从工艺上来说要保证上百
层半导体材料的厚度都很均匀的确困难,而且使得器件的串联电阻很大,热特性变
差。
由于这些原因,从1977年伊贺健一提出垂直腔面发射激光器概念起,直到1988
年才实现室温工作。目前国际上垂直腔面发射激光器已发展到较高水平,阈值电流
已达到亚毫安级,输出功率大于1mW,器件效率可达到50%,截面直径3微米,发散角
约几度,已有报道的集成度为直径2毫米的基片上,集成32*64个器件。
伊贺健一估计,当腔长为波长量级,器件尺寸达到微米或亚微米时,垂直腔面
发射激光器的性能可以达到:
阈值电流:1微安
外微分量子效率:50% (这一点实际上已达到,据说有报道70%的)
单管输出功率:10毫瓦
调制带宽:50GHz
边模抑制比:40dB
单模线宽:100kHz
列阵功率:1千瓦
垂直腔面发射激光器可能的应用:
1. 二维面发光阵列用于光计算和光互连,以及光信息处理上。
2. 高密度集成的垂直腔面发射激光器列阵可以实现高功率锁相列阵,这在军事上
有很大应用前景。
3. 由于垂直腔面发射激光器的腔长极短,因而调制速率很高,可以实现高速光开
关阵列。
5. 我们知道反向偏置的半导体激光器就是半导体探测器,所以反向偏置的垂直腔
面发射激光器二维面发光阵列就可以作为二维面接收阵列。
6. 在面阵上按一定规律集成红,绿,蓝光的激光器,可以构成RGB三色发光阵列,
用于彩色显示。
已达到亚毫安级,输出功率大于1mW,器件效率可达到50%,截面直径3微米,发散角
约几度,已有报道的集成度为直径2毫米的基片上,集成32*64个器件。
伊贺健一估计,当腔长为波长量级,器件尺寸达到微米或亚微米时,垂直腔面
发射激光器的性能可以达到:
阈值电流:1微安
外微分量子效率:50% (这一点实际上已达到,据说有报道70%的)
单管输出功率:10毫瓦
调制带宽:50GHz
边模抑制比:40dB
单模线宽:100kHz
列阵功率:1千瓦
垂直腔面发射激光器可能的应用:
1. 二维面发光阵列用于光计算和光互连,以及光信息处理上。
2. 高密度集成的垂直腔面发射激光器列阵可以实现高功率锁相列阵,这在军事上
有很大应用前景。
3. 由于垂直腔面发射激光器的腔长极短,因而调制速率很高,可以实现高速光开
关阵列。
5. 我们知道反向偏置的半导体激光器就是半导体探测器,所以反向偏置的垂直腔
面发射激光器二维面发光阵列就可以作为二维面接收阵列。
6. 在面阵上按一定规律集成红,绿,蓝光的激光器,可以构成RGB三色发光阵列,
用于彩色显示。
可以预见,垂直腔面发射激光器主要在下个世纪的通信,光互连,光信息处
理以及军用大功率激光等方面产生将重要影响。
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